Verfahren und Vorrichtung zum Modifizieren von Abbildungseigenschaften eines Optischen Systems für die Mikrolithographie
EP3559750
Art B9
7. Juli 2021
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3559750
- Aktenzeichen
- EP17816592
- Anmeldetag
- 1. Dezember 2017
- Veröffentlichung
- 7. Juli 2021
- Erteilung
- 7. Juli 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G06N99/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Vertreten von
Frank, Hartmut
Mülheim a. d. Ruhr, Deutschland
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