Polymer, Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur

EP3564276 Art B1 19. April 2023

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3564276
Aktenzeichen: EP17888030
Anmeldetag: 15. Dezember 2017
Veröffentlichung: 19. April 2023
Erteilung: 19. April 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C08F220/22C08F212/06G03F7/039G03F7/20C08F2/46C09D133/16

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

2.552 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von