Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, Strukturformungsverfahren und Metallhaltiges Harz sowie Verfahren zur Herstellung davon
EP3564751
Art A1
6. November 2019
Anmelder: JSR Corporation, JICC-02 Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3564751
- Aktenzeichen
- EP17887183
- Anmeldetag
- 27. November 2017
- Veröffentlichung
- 6. November 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/038C08F12/14C08G79/12G03F7/004G03F7/20G03F7/32G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JSR Corporation
JICC-02 Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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