Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, Strukturbildungsverfahren und Metalloxid
EP3564752
Art A1
6. November 2019
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3564752
- Aktenzeichen
- EP17888261
- Anmeldetag
- 11. Dezember 2017
- Veröffentlichung
- 6. November 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/038G03F7/004G03F7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
1.781 Patente in unserer Datenbank