Verfahren zur Beschichtung eines Substrates mit einer Hohlraumstruktur

Details

Veröffentlichungs-Nr.

EP3572551

Aktenzeichen

EP19174701

Anmeldetag

15. Mai 2019

Veröffentlichung

29. Juni 2022

Erteilung

29. Juni 2022

Rechtsraum

EP

IPC

C23C4/00C23C4/04F01D5/00F01D5/12F01D5/14F01D5/28F01D25/00C23C16/02C23C16/06C23C4/073C23C4/134C23C28/00C23C28/02

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung eines Substrates (40) mit einer Hohlraumstruktur (41), insbesondere einer Kühlstruktur, im Inneren des Substrats (40), wobei die Hohlraumstruktur (41) Öffnungen (42) in der Oberfläche (O) des Substrats (40) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass a) mindestens eine haftvermittelnde Schicht, insbesondere eine Diffusionsschicht (31) oder mindestens eine metallische Schicht auf das Substrat (40), insbesondere auf die Oberfläche (O) des Substrates (40), aufgebracht wird und anschließend b) mindestens eine thermische Schutzschicht (32) unter Verwendung eines Plasma-Spray PVD (PS-PVD) Verfahrens, eines Hohlkathoden-Sputter Verfahrens oder eines Suspension Plasma Spray (SPS) Verfahrens auf die mindestens eine Diffusionsschicht (31) aufgebracht wird.

Anmelder

Firmen

Rolls-Royce Deutschland Ltd & Co KG
Forschungszentrum Jülich GmbH

Land

🇩🇪 Deutschland

Fachgebiete