Verfahren zur Herstellung von (2E,6Z)-2,6-Nonadienal und Verfahren zur Herstellung von (2E)-Cis-6,7-Epoxy-2-Nonenal
EP3575280
Art A1
4. Dezember 2019
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3575280
- Aktenzeichen
- EP19176820
- Anmeldetag
- 27. Mai 2019
- Veröffentlichung
- 4. Dezember 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C41/48C07C43/303C07C45/51C07C47/21C07D303/32C07F9/535C07F9/54
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
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De Vries & Metman
De Vries & Metman · Amsterdam