Chemisch Verstärkte Negative Resistzusammensetzung und Resistmusterbildungsverfahren

EP3579050 Art B1 11. November 2020

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3579050
Aktenzeichen: EP19174817
Anmeldetag: 16. Mai 2019
Veröffentlichung: 11. November 2020
Erteilung: 11. November 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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