Pastenverfahren zur Verringerung von Defekten Beim Dielektrischen Sputtern
EP3580369
Art A1
18. Dezember 2019
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3580369
- Aktenzeichen
- EP18752011
- Anmeldetag
- 1. Februar 2018
- Veröffentlichung
- 18. Dezember 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/56C23C14/18C23C14/34H01J37/32C23C14/08C23C14/35C23C14/58H01J37/34H01L43/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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