Strahlungsempfindliche Zusammensetzung und Musterformungsverfahren
EP3598232
Art A1
22. Januar 2020
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3598232
- Aktenzeichen
- EP18767624
- Anmeldetag
- 26. Januar 2018
- Veröffentlichung
- 22. Januar 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/038G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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