Zusammensetzung für Gasdichtungselement und Verfahren zur Herstellung Davon, Gasdichtungsglied für Hochdruckwasserstoffanlage sowie Hochdruckwasserstoffanlage

EP3604474 Art A1 5. Februar 2020

Anmelder: Kyushu University, National University Corporation, Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3604474
Aktenzeichen
EP18775923
Anmeldetag
5. März 2018
Veröffentlichung
5. Februar 2020
Rechtsraum
EP
IPC
C09K3/10C08L21/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Kyushu University, National University Corporation
Zeon Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kyushu University

Kyushu University ist eine staatliche Universität in Fukuoka, Japan, mit Forschungsschwerpunkten in Natur- und Ingenieurwissenschaften.

878 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

2.552 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen