Zusammensetzung für Gasdichtungselement und Verfahren zur Herstellung Davon, Gasdichtungsglied für Hochdruckwasserstoffanlage sowie Hochdruckwasserstoffanlage
EP3604474
Art A1
5. Februar 2020
Anmelder: Kyushu University, National University Corporation, Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3604474
- Aktenzeichen
- EP18775923
- Anmeldetag
- 5. März 2018
- Veröffentlichung
- 5. Februar 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09K3/10C08L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Kyushu University, National University Corporation
Zeon Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Kyushu University
Kyushu University ist eine staatliche Universität in Fukuoka, Japan, mit Forschungsschwerpunkten in Natur- und Ingenieurwissenschaften.
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🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
2.552 Patente in unserer Datenbank