Gegenüber Aktinischen Strahlen Empfindliche oder Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistfilm, Musterherstellungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung
EP3605226
Art A8
1. April 2020
Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3605226
- Aktenzeichen
- EP18774945
- Anmeldetag
- 23. Februar 2018
- Veröffentlichung
- 1. April 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/038G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
21.764 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München