Strahlungsempfindliche Zusammensetzung und Verfahren zur Ausbildung von Resiststrukturen

EP3605228 Art B1 9. Februar 2022

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3605228
Aktenzeichen: EP18775825
Anmeldetag: 21. Februar 2018
Veröffentlichung: 9. Februar 2022
Erteilung: 9. Februar 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039C08F220/18C08L33/10G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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