Verfahren und Metallsubstrat zum Kontaktieren eines Leistungshalbleiters durch ein Kontaktierungsmittel mit Zumindest einem Kontaktierungsfreien Bereich als Belastungsreduzierende Struktur

EP3611761 Art A1 19. Februar 2020

Anmelder: Heraeus Deutschland GmbH & Co KG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3611761
Aktenzeichen
EP18188744
Anmeldetag
13. August 2018
Veröffentlichung
19. Februar 2020
Rechtsraum
EP
IPC
H01L23/488H01L21/60
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Heraeus Deutschland GmbH & Co KG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Heraeus Deutschland

Deutsches Technologieunternehmen mit Sitz in Hanau. Heraeus entwickelt Materialien und Lösungen in den Bereichen Edelmetalle, Sensorik, Medizintechnik und Werkstofftechnik.

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