Verfahren und Metallsubstrat zum Kontaktieren eines Leistungshalbleiters durch ein Kontaktierungsmittel mit Zumindest einem Kontaktierungsfreien Bereich als Belastungsreduzierende Struktur
EP3611761
Art A1
19. Februar 2020
Anmelder: Heraeus Deutschland GmbH & Co KG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3611761
- Aktenzeichen
- EP18188744
- Anmeldetag
- 13. August 2018
- Veröffentlichung
- 19. Februar 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L23/488H01L21/60
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Heraeus Deutschland GmbH & Co KG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Heraeus Deutschland
Deutsches Technologieunternehmen mit Sitz in Hanau. Heraeus entwickelt Materialien und Lösungen in den Bereichen Edelmetalle, Sensorik, Medizintechnik und Werkstofftechnik.
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