Verfahren zur Herstellung von (E2,Z6)-2,6-Nonadienal
EP3613724
Art B1
7. Juni 2023
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3613724
- Aktenzeichen
- EP19193038
- Anmeldetag
- 22. August 2019
- Veröffentlichung
- 7. Juni 2023
- Erteilung
- 7. Juni 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C45/29C07C47/21
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Ipsilon
Ipsilon · Bourg-la-Reine
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Cabinet Nony
Cabinet Nony · Paris
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Nony
Nony · Paris