Verfahren zur Herstellung von (E2)-Cis-6,7-Epoxid-2-Nonenal

EP3613732 Art B1 13. April 2022

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3613732
Aktenzeichen
EP19193077
Anmeldetag
22. August 2019
Veröffentlichung
13. April 2022
Erteilung
13. April 2022
Rechtsraum
EP
IPC
C07D301/14C07D303/32
Offizieller Volltext

Abstract

The object of the present invention is to provide an industrial and economical process for preparing (E2)-cis-6,7-epoxy-2-nonenal of the following formula (3):The present invention provides a process for preparing (E2)-cis-6,7-epoxy-2-nonenal (3), comprising at least steps of:subjecting (Z3,Z6)-3,6-nonadien-1-ol of the following formula (1) to oxidation:to form (E2,Z6)-2,6-nonadienal of the following formula (2); andepoxidizing the resulting (E2,Z6)-2,6-nonadienal to form the aforesaid (E2)-cis-6,7-epoxy-2-nonenal (3).

Anmelder

Firma
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.656 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen