Verfahren zur Herstellung von (E2)-Cis-6,7-Epoxid-2-Nonenal
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3613732
- Aktenzeichen
- EP19193077
- Anmeldetag
- 22. August 2019
- Veröffentlichung
- 13. April 2022
- Erteilung
- 13. April 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07D301/14C07D303/32
Abstract
The object of the present invention is to provide an industrial and economical process for preparing (E2)-cis-6,7-epoxy-2-nonenal of the following formula (3):The present invention provides a process for preparing (E2)-cis-6,7-epoxy-2-nonenal (3), comprising at least steps of:subjecting (Z3,Z6)-3,6-nonadien-1-ol of the following formula (1) to oxidation:to form (E2,Z6)-2,6-nonadienal of the following formula (2); andepoxidizing the resulting (E2,Z6)-2,6-nonadienal to form the aforesaid (E2)-cis-6,7-epoxy-2-nonenal (3).
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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