Verfahren zur Herstellung von Dotiertes Mehrschichtiges Graphen unter Verwendung Chemischer Dampfabscheidung

EP3626679 Art A1 25. März 2020

Anmelder: POSTECH Research and Business Development Foundation, Center For Advanced Soft Electronics, Postech Academy-Industry Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3626679
Aktenzeichen: EP19192719
Anmeldetag: 20. August 2019
Veröffentlichung: 25. März 2020
Rechtsraum: EP
IPC: C01B32/186C23C16/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: POSTECH Research and Business Development Foundation
Center For Advanced Soft Electronics
Postech Academy-Industry Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Postech Academy-Industry Foundation

Die Postech Academy-Industry Foundation ist die Technologietransferstelle der südkoreanischen Universität POSTECH mit Sitz in Pohang. Die Patente stammen aus Forschungsprojekten in Materialwissenschaft, Elektronik und Chemie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von