Filmbildendes Material für die Lithografie, Zusammensetzung zur Bildung eines Films für die Lithografie, Unterschichtfilm für die Lithografie und Mustererzeugungsverfahren
EP3627224
Art A1
25. März 2020
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3627224
- Aktenzeichen
- EP18802656
- Anmeldetag
- 14. Mai 2018
- Veröffentlichung
- 25. März 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11C08F22/40C08L101/02G03F7/20G03F7/26G03F7/09G03F7/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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