Verminderung der Partikelkontamination für Wafer-Dicing-Prozesse
EP3631849
Art A1
8. April 2020
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3631849
- Aktenzeichen
- EP18809423
- Anmeldetag
- 11. Mai 2018
- Veröffentlichung
- 8. April 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/78H01L21/76H01L21/67H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank