Wolframdefluorierung durch Hochdruckbehandlung
EP3635770
Art A1
15. April 2020
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3635770
- Aktenzeichen
- EP18806169
- Anmeldetag
- 23. Mai 2018
- Veröffentlichung
- 15. April 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/14C23C16/56H10P72/00H10P72/76H10P95/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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