Vorrichtung und Verfahren zur Gaszufuhr in Halbleiterprozesskammern

EP3635776 Art A1 15. April 2020

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3635776
Aktenzeichen: EP18812876
Anmeldetag: 31. Mai 2018
Veröffentlichung: 15. April 2020
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/455H01J37/32H01L21/67H01L21/205C25D1/02C25D1/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von