Negative Resistzusammensetzung und Resistmusterformungsvorgang

EP3644122 Art B1 30. Dezember 2020

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3644122
Aktenzeichen: EP19202616
Anmeldetag: 11. Oktober 2019
Veröffentlichung: 30. Dezember 2020
Erteilung: 30. Dezember 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/038C07C311/01C07C311/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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