Verfahren zur Behandlung eines Substrats aus Glas oder eines Glasartigen Substrats auf Basis von SIO2
EP3647288
Art B8
21. August 2024
Anmelder: n-tec GmbH, N-Tec GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3647288
- Aktenzeichen
- EP19000497
- Anmeldetag
- 4. November 2019
- Veröffentlichung
- 21. August 2024
- Erteilung
- 21. August 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C03C17/25C03C17/27C08K3/00C03C17/00C03C23/00C03C17/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- n-tec GmbH
N-Tec GmbH - Land
- 🇩🇪 Deutschland
Vertreten von
May, Mark Andrew
Freising, Deutschland
110
Patente gesamt
18
Fachgebiete
7
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Maiwald GmbH
Maiwald GmbH · München