Filmbildendes Material, Lithografische Filmbildende Zusammensetzung, Optisches Komponentenbildendes Material, Resistzusammensetzung, Resiststrukturerzeugungsverfahren, Resistdauerfilm, Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, Verfahren zur Formung eines Amorphen Films, Material zur Bildung eines Lithografischen Unterschichtfilms, Verfahren zur Herstellung eines Lithografischen Unterschichtfilms und Verfahren zur Schaltungsmusterbildung
EP3647869
Art A1
6. Mai 2020
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3647869
- Aktenzeichen
- EP18825432
- Anmeldetag
- 25. Juni 2018
- Veröffentlichung
- 6. Mai 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004C07D251/24C09D7/63C09D201/00G03F7/023G03F7/027G03F7/032G03F7/039G03F7/11G03F7/20G03F7/26G03F7/40H01L21/027G03F7/022G03F7/038G03F7/09
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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