Siliziumnitridfilme mit Hohem Stickstoffgehalt
EP3649270
Art B1
27. März 2024
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3649270
- Aktenzeichen
- EP18828805
- Anmeldetag
- 5. Juli 2018
- Veröffentlichung
- 27. März 2024
- Erteilung
- 27. März 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02C23C16/04C23C16/452C23C16/455C23C16/505C23C16/34C23C16/56
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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