Plasmaätzvorrichtung
EP3654367
Art A1
20. Mai 2020
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3654367
- Aktenzeichen
- EP19208518
- Anmeldetag
- 5. Oktober 2007
- Veröffentlichung
- 20. Mai 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065H01L21/768H05H1/46H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München