Siloxanpolymer mit Isocyanursäure und Polyethergerüsten, Lichtempfindliche Harzzusammensetzung, Musterausbildungsverfahren und Herstellung eines Opto-Halbleiterbauelements
EP3660077
Art B1
11. August 2021
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3660077
- Aktenzeichen
- EP19209616
- Anmeldetag
- 18. November 2019
- Veröffentlichung
- 11. August 2021
- Erteilung
- 11. August 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G77/12C08G77/20C08G77/46C08G77/52C08G77/54C08K5/372C08K5/375C09D183/12C09D183/14G03F7/038G03F7/075H05K3/28C08G77/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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