Verfahren zur Herstellung von 4-Methyl-5-Nonanon und 4-Methyl-5-Nonanol
EP3670484
Art B1
2. März 2022
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3670484
- Aktenzeichen
- EP19217002
- Anmeldetag
- 17. Dezember 2019
- Veröffentlichung
- 2. März 2022
- Erteilung
- 2. März 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C17/16C07C45/45C07C49/04C07C19/01C07C51/56C07C53/126C07C29/143C07C31/125
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
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De Vries & Metman
De Vries & Metman · Amsterdam