Verbessertes Herstellungsverfahren eines Integrierten Schaltkreises, der einen Nmos- und einen Pmos-Transistor Umfasst

EP3671826 Art B1 31. Mai 2023

Anmelder: COMMISSARIAT À L'ÉNERGIE ATOMIQUE ET AUX ÉNERGIES ALTERNATIVES 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3671826
Aktenzeichen
EP19215347
Anmeldetag
11. Dezember 2019
Veröffentlichung
31. Mai 2023
Erteilung
31. Mai 2023
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/84H01L27/12H01L21/8238
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
COMMISSARIAT À L'ÉNERGIE ATOMIQUE ET AUX ÉNERGIES ALTERNATIVES
Land
🇫🇷 Frankreich

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