Halbleiterwaferherstellungsverfahren, Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterenergiestrahlerdetektionselements und Halbleiterwafer
EP3680940
Art A1
15. Juli 2020
Anmelder: Hamamatsu Photonics K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3680940
- Aktenzeichen
- EP18854988
- Anmeldetag
- 5. September 2018
- Veröffentlichung
- 15. Juli 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L31/103H01L31/18H01L31/118
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hamamatsu Photonics K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hamamatsu Photonics
Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München