Verfahren zur Verringerung des Porendurchmessers mittels Atomlagenabscheidung und Ätzung

EP3685427 Art A1 29. Juli 2020

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3685427
Aktenzeichen: EP18858513
Anmeldetag: 11. September 2018
Veröffentlichung: 29. Juli 2020
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3065H01L21/027H01L21/02G03F7/00H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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