Zusammensetzung zur Herstellung eines Films für Lithografie, Film für Lithografie, Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters und Verfahren zur Herstellung eines Schaltkreises
EP3715949
Art A1
30. September 2020
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3715949
- Aktenzeichen
- EP18879725
- Anmeldetag
- 16. November 2018
- Veröffentlichung
- 30. September 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11C08G10/02C08G10/04G03F7/027G03F7/031G03F7/039G03F7/20G03F7/26C08L61/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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