Elektronenstrahl-Dampfabscheidungsverfahren

EP3719168 Art B1 8. Mai 2024

Anmelder: RTX Corporation, Raytheon Technologies Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3719168
Aktenzeichen: EP20168077
Anmeldetag: 3. April 2020
Veröffentlichung: 8. Mai 2024
Erteilung: 8. Mai 2024
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/22C23C14/30C23C14/54

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: RTX Corporation
Raytheon Technologies Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 RTX Corporation

US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungskonzern, entstanden aus Raytheon und United Technologies. Entwickelt und fertigt Triebwerke, Avionik, Radarsysteme, Raketen- und Verteidigungstechnik für zivile und militärische Kunden.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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