Verfahren zur Herstellung einer Silikat-Schutzschicht

EP3725910 Art A1 21. Oktober 2020

Anmelder: Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3725910
Aktenzeichen
EP20166615
Anmeldetag
30. März 2020
Veröffentlichung
21. Oktober 2020
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/00C23C14/08C23C14/54
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V.
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt

Deutsches Forschungszentrum für Luftfahrt, Raumfahrt, Energie und Verkehr mit Hauptsitz in Köln. Das DLR ist zugleich die deutsche Raumfahrtagentur und betreibt zahlreiche Institute im gesamten Bundesgebiet.

1.303 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen