Plasmaätzverfahren und Plasmaätzvorrichtung

EP3726567 Art B1 22. Januar 2025

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Université D'Orléans 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3726567
Aktenzeichen: EP18889001
Anmeldetag: 11. Dezember 2018
Veröffentlichung: 22. Januar 2025
Erteilung: 22. Januar 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3065H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Université D'Orléans
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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