Aktive Lichtempfindliche oder Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistfilm, Verfahren zur Herstellung eines Musters, Maskenrohling mit Resistfilm, Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske und Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung
EP3731016
Art A1
28. Oktober 2020
Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3731016
- Aktenzeichen
- EP18893237
- Anmeldetag
- 30. Oktober 2018
- Veröffentlichung
- 28. Oktober 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F1/60G03F1/78G03F7/004G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München