Verfahren zur Herstellung von Treppenstrukturen und Zugehörige Treppenstrukturen und Halbleiterbauelementstrukturen
EP3732706
Art A1
4. November 2020
Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3732706
- Aktenzeichen
- EP18896446
- Anmeldetag
- 14. Dezember 2018
- Veröffentlichung
- 4. November 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L27/11556H01L27/11582H01L27/11548H01L27/11575H01L21/033
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Micron Technology, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
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