Verfahren zur Herstellung von Treppenstrukturen und Zugehörige Treppenstrukturen und Halbleiterbauelementstrukturen

EP3732706 Art A1 4. November 2020

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3732706
Aktenzeichen
EP18896446
Anmeldetag
14. Dezember 2018
Veröffentlichung
4. November 2020
Rechtsraum
EP
IPC
H01L27/11556H01L27/11582H01L27/11548H01L27/11575H01L21/033
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Micron Technology, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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