Fotomasken-Rohling, Fotomaske und Lichtmuster-Belichtungsverfahren

EP3736631 Art A1 11. November 2020

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Tekscend Photomask Corp., Toppan Photomask Co., Ltd., Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3736631
Aktenzeichen: EP20172907
Anmeldetag: 31. August 2011
Veröffentlichung: 11. November 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/32G03F1/50G03F1/72G03F1/48

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Tekscend Photomask Corp.
Toppan Photomask Co., Ltd.
Toppan Printing Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

1.905 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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