Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Substraten

EP3743939 Art A1 2. Dezember 2020

Anmelder: ACM Research (Shanghai) Inc. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3743939
Aktenzeichen
EP18902437
Anmeldetag
23. Januar 2018
Veröffentlichung
2. Dezember 2020
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/02H01L21/67
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ACM Research (Shanghai) Inc.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

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