Musterherstellungsverfahren unter Verwendung von Elektronenstrahlen für Euv-Strahlen und Verwendung Dieses Verfahrens zur Herstellung einer Feinschaltung einer Halbleitervorrichtung

EP3745207 Art B1 16. Juni 2021

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3745207
Aktenzeichen: EP20179218
Anmeldetag: 19. Februar 2010
Veröffentlichung: 16. Juni 2021
Erteilung: 16. Juni 2021
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/32G03F7/038H01L21/027G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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