Systeme und Verfahren zur Unterdrückung von Kupfer (i) in der Elektrochemischen Abscheidung
EP3746585
Art A1
9. Dezember 2020
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3746585
- Aktenzeichen
- EP19743799
- Anmeldetag
- 28. Januar 2019
- Veröffentlichung
- 9. Dezember 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C25D21/14C25D21/06C25D17/02C25D7/12H01L21/288
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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