Pvd-Titandioxidbildung unter Verwendung von Sputterätzen zum Stoppen des Kristallisationsbeginns bei Dickschichten
EP3755823
Art A1
30. Dezember 2020
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3755823
- Aktenzeichen
- EP19753639
- Anmeldetag
- 28. Januar 2019
- Veröffentlichung
- 30. Dezember 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/58C23C14/08C23C14/34C23C14/50H01J37/32H01J37/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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