Resistunterschichtfilmbildende Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Mustern
EP3757678
Art A1
30. Dezember 2020
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3757678
- Aktenzeichen
- EP19794058
- Anmeldetag
- 26. April 2019
- Veröffentlichung
- 30. Dezember 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11G03F7/20G03F7/26G03F7/09H01L21/31H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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