Plasmaätzverfahren unter Verwendung eines Faraday-Käfigs
EP3764389
Art B1
10. Januar 2024
Anmelder: LG CHEM, LTD. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3764389
- Aktenzeichen
- EP19827477
- Anmeldetag
- 18. Juni 2019
- Veröffentlichung
- 10. Januar 2024
- Erteilung
- 10. Januar 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065G02B5/18G03F1/80H05H1/46H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LG CHEM, LTD.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
LG Chem
Südkoreanisches Chemieunternehmen, das Batteriematerialien, Kunststoffe, petrochemische Produkte und pharmazeutische Wirkstoffe herstellt.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München