Verfahren zur Herstellung einer Dünnschicht aus einem Ferroelektrikum auf Alkalibasis

EP3766094 Art B1 27. April 2022

Anmelder: SOITEC 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3766094
Aktenzeichen: EP19710754
Anmeldetag: 18. Februar 2019
Veröffentlichung: 27. April 2022
Erteilung: 27. April 2022
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/762H01L21/02H01L41/312

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SOITEC
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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