Planarisierung für Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementgehäusen
EP3766097
Art A1
20. Januar 2021
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3766097
- Aktenzeichen
- EP19766870
- Anmeldetag
- 15. Februar 2019
- Veröffentlichung
- 20. Januar 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/56H01L23/31
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank