Reinigungslösung zur Entfernung von Trockenätzrückständen und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitersubstrats unter Verwendung davon

EP3767666 Art B1 27. März 2024

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3767666
Aktenzeichen
EP19768464
Anmeldetag
5. März 2019
Veröffentlichung
27. März 2024
Erteilung
27. März 2024
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/02H01L21/768C11D7/26C11D7/32C11D7/50C11D17/08H01L21/28
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

1.434 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen