Reinigungslösung zur Entfernung von Trockenätzrückständen und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitersubstrats unter Verwendung davon
EP3767666
Art B1
27. März 2024
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3767666
- Aktenzeichen
- EP19768464
- Anmeldetag
- 5. März 2019
- Veröffentlichung
- 27. März 2024
- Erteilung
- 27. März 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/768C11D7/26C11D7/32C11D7/50C11D17/08H01L21/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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