Galvanisches Zinnbad und Verfahren zur Abscheidung von Zinn oder Zinnlegierungen auf einer Oberfläche eines Substrats

EP3770298 Art A1 27. Januar 2021

Anmelder: Atotech Deutschland GmbH & Co. KG, Atotech Deutschland GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3770298
Aktenzeichen: EP19188069
Anmeldetag: 24. Juli 2019
Veröffentlichung: 27. Januar 2021
Rechtsraum: EP
IPC: C23C18/52H01L23/00

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firmen: Atotech Deutschland GmbH & Co. KG
Atotech Deutschland GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Atotech Deutschland

Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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