Verfahren zur Herstellung eines Substrats für einen Radiofrequenzfilter

EP3776632 Art B1 21. August 2024

Anmelder: SOITEC 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3776632
Aktenzeichen: EP19719549
Anmeldetag: 26. März 2019
Veröffentlichung: 21. August 2024
Erteilung: 21. August 2024
Rechtsraum: EP
IPC: H10N30/073H03H9/02H01L21/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: SOITEC
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

801 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von