Hybridstruktur für Oberflächenschallwellenvorrichtung und Zugehöriges Herstellungsverfahren
EP3776677
Art B1
16. Februar 2022
Anmelder: SOITEC 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3776677
- Aktenzeichen
- EP19715974
- Anmeldetag
- 13. März 2019
- Veröffentlichung
- 16. Februar 2022
- Erteilung
- 16. Februar 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L41/43H01L41/08H01L41/319H03H3/007H03H9/72
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOITEC
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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