Hybridstruktur für Oberflächenschallwellenvorrichtung und Zugehöriges Herstellungsverfahren

EP3776677 Art B1 16. Februar 2022

Anmelder: SOITEC 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3776677
Aktenzeichen
EP19715974
Anmeldetag
13. März 2019
Veröffentlichung
16. Februar 2022
Erteilung
16. Februar 2022
Rechtsraum
EP
IPC
H01L41/43H01L41/08H01L41/319H03H3/007H03H9/72
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
SOITEC
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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