Negative Lichtempfindliche Zusammensetzung für Euv-Licht, Verfahren zur Musterformung und Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung
EP3779596
Art A1
17. Februar 2021
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3779596
- Aktenzeichen
- EP19776054
- Anmeldetag
- 26. Februar 2019
- Veröffentlichung
- 17. Februar 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/004G03F7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München